納米激光光刻系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
納米激光光刻系統(tǒng)是專(zhuān)門(mén)為科研團(tuán)隊(duì)和加工平臺(tái)設(shè)計(jì)的小范圍多功能光刻系統(tǒng)，根據(jù)壓電平臺(tái)的移動(dòng)范圍，分為P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型號(hào)...
激光直寫(xiě)技術(shù) 參考價(jià)：面議
激光直寫(xiě)技術(shù)采用全新的技術(shù)路徑提高加工分辨率，一舉突破突衍射極限的限制，成功實(shí)現(xiàn)納米尺度加工；突破了目前激光直寫(xiě)僅能用于有機(jī)光刻膠的現(xiàn)狀，可以廣泛應(yīng)用于各種受體...
納米激光直寫(xiě) 參考價(jià)：面議
納米激光直寫(xiě)是一款大面積、高精度、可套刻、超衍射極限加工的激光直寫(xiě)系統(tǒng)，可用于晶圓尺寸的大面積微納加工，適用于各種微納結(jié)構(gòu)和器件制造、小批量微納器件生產(chǎn)等。該系...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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